真空镀加工厂家-宏镒行-龙海真空镀加工厂家

真空镀膜技术---发展现状，真空镀膜技术是真空应用技术的重要组成部分，是一项综合的、应用范围很广的---技术，是许多学科发展的基础技术之一，同时也是当今信息时代中许多---发展必不可少的手段。

真空镀膜技术及设备在当今和未来都拥有十分广阔的应用领域和发展前景 ---是在制造---集成电路的电学膜：数字式纵向与横向均可磁化的数据纪录储存膜：在能充分展示和应用各种光学特性的光学膜;在计算机显示用的感光膜;在tft、pdp平面显示器上的导电膜和增透膜;在建筑、汽车行业上应用的玻璃镀膜和装饰膜;在包装领域用防护膜、阻隔膜;在装饰材料上具有各种功能装饰效果的功能膜;在工、模具上应用的耐磨超。

从目前真空镀膜设备的市场发展现状来看，国外许多实力---的真空镀膜设备生产商已在成立了许多合资或独资的加工企业，真空镀加工厂家，并将一些新的真空镀膜工艺技术和产品移植到这些企业中来。因此我国真空镀膜设备在今后三～五年内的主要市场除了国内的企业外，外商投资企业也是设备需求新的增长点。

真空镀膜工艺技术的不断发展，也推动了真空镀膜设备的不断更新，真可谓是一代工艺、一代设备，而各类新的真空镀膜设备的出现，又为---、复杂的工艺应用于工业化生产提供了---的---。以下将从真空镀膜设备的几个主要应用领域，简述---真空镀膜应用技术及设备的基本现状及主要差距。

真空镀膜的物理过程

pvd（物理气相沉积技术）的基本原理可分为三个工艺步骤：

（1）镀料的气化：即镀料的蒸发、升华或被溅射从而形成气化源

（2）镀料粒子（（原子、分子或离子）的迁移：由气化源供出原子、分子或离子经过碰撞，产生多种反应。

（3）镀料粒子在基片表面的沉积

薄膜的形成顺序为：具有一定能量的原子被吸附***形成小原子团***临界核***小岛***大岛***岛结合***沟道薄膜***连续薄膜。因此薄膜的形成过程可分为四个阶段；临界核的形成；岛的形成、长大与结合；沟道薄膜的形成和连续膜的形成。

真空镀膜的工艺流程

真空镀膜的工艺流程一般依次为：前处理及化学清洗（表面打磨抛光喷砂，除锈除油去氧化层）***工件在真空中烘烤加热***亚离子辉光清洗***金属离子轰击***镀金属过渡层***镀膜（通入反应气体）***后处理（炉内钝化或出炉后钝化去应力或防止变色，过uv做防指膜处理等）。