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真空镀膜的物理过程

pvd（物理气相沉积技术）的基本原理可分为三个工艺步骤：

（1）镀料的气化：即镀料的蒸发、升华或被溅射从而形成气化源

（2）镀料粒子（（原子、分子或离子）的迁移：由气化源供出原子、分子或离子经过碰撞，产生多种反应。

（3）镀料粒子在基片表面的沉积

薄膜的形成顺序为：具有一定能量的原子被吸附***形成小原子团***临界核***小岛***大岛***岛结合***沟道薄膜***连续薄膜。因此薄膜的形成过程可分为四个阶段；临界核的形成；岛的形成、长大与结合；沟道薄膜的形成和连续膜的形成。

真空镀膜的工艺流程

真空镀膜的工艺流程一般依次为：前处理及化学清洗（表面打磨抛光喷砂，除锈除油去氧化层）***工件在真空中烘烤加热***亚离子辉光清洗***金属离子轰击***镀金属过渡层***镀膜（通入反应气体）***后处理（炉内钝化或出炉后钝化去应力或防止变色，过uv做防指膜处理等）。

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